[发明专利]鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法

摘要

具有含桥接环的基团的芳烃磺酸的鎓盐产生了具有适当强度和受控的扩散的大体积酸。当包含该鎓盐和基础聚合物的正型抗蚀剂组合物通过光刻法加工时，形成了具有高分辨率和降低的LER的矩形轮廓的图案。

主权项

1.具有式(1)的鎓盐：/n /n其中X¹和X²各自独立地为亚甲基，丙烷-2,2-二基或醚键，/nL为单键、酯键、磺酸酯键，碳酸酯键或氨基甲酸酯键，/nR¹和R²各自独立地为可含有杂原子的C₁-C₂₀一价烃基团，/nm¹和m²各自独立地为0至2的整数，m³为0或1，n¹为满足1≤n¹≤5+2m¹的整数，n²为满足0≤n²≤4+2m²的整数，n³为满足0≤n³≤8+4m³的整数，/nA⁺为具有式(2)的锍阳离子，具有式(3)的碘鎓阳离子，或具有式(4)的铵阳离子：/n /n其中R^3A，R^3B，R^3C，R^4A，R^4B，R^5A，R^5B和R^5C各自独立地为可含有杂原子的C₁-C₂₀一价烃基团，R^5D为氢或可含有杂原子的C₁-C₂₀一价烃基团，R^3A，R^3B和R^3C中的任意两个或R^5A，R^5B，R^5C和R^5D中的任意两个可键合在一起以与它们连接的硫或氮原子形成环。/n