[发明专利]一种同向偏振态的多路激光干涉光刻系统和方法在审
| 申请号： | 201910440162.X | 申请日： | 2019-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN110026685A | 公开（公告）日： | 2019-07-19 |
| 发明（设计）人： | 李永亮;张翼鹏;刘泓鑫;王驰 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | B23K26/352 | 分类号： | B23K26/352;B23K26/50;B23K26/073;B23K26/067;B23K26/064 |
| 代理公司： | 北京市诚辉律师事务所 11430 | 代理人： | 耿慧敏 |
| 地址： | 130022 *** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明提供一种同向偏振态的多路激光干涉光刻系统和方法。该系统包括依次排列的激光产生组件、光束整形组件和干涉组件，其中：激光产生组件用于产生多路相干的平行光束；光束整形组件包括依次排列的扩束准直单元和光束整形单元，扩束准直单元用于对多路相干的平行光束进行准直，光束整形单元用于对进行准直后的光束进行能量均匀化处理；干涉组件包括偏振态调制单元，该偏振态调制单元用于微量调整经能量均匀化处理之后光束之间的夹角和光束的偏振态，获得相交于一点的干涉光。利用本发明提供的系统和方法，能够较容易地获得光强分布均匀、对比度更明显的多光束干涉条纹。 | ||
| 搜索关键词： | 多路 偏振态 激光干涉光刻系统 光束整形单元 光束整形组件 均匀化处理 偏振态调制 干涉组件 激光产生 平行光束 依次排列 准直单元 相干 扩束 同向 光强分布均匀 多光束干涉 微量调整 干涉光 条纹 准直 相交 | ||
【主权项】：
1.一种同向偏振态的多路激光干涉光刻系统，其特征在于：包括依次排列的激光产生组件(1)、光束整形组件(2)和干涉组件(3)，其中：所述激光产生组件(1)用于产生至少三路相干的平行光束，这些平行光束的偏振方向相同；所述光束整形组件(2)包括依次排列的扩束准直单元(4)和光束整形单元(5)，所述扩束准直单元(4)用于对所产生的相干的平行光束进行准直，所述光束整形单元(5)用于对进行准直后的光束进行能量均匀化处理；所述干涉组件(3)包括偏振态调制单元(6)，该偏振态调制单元(6)用于调整经能量均匀化处理之后光束之间的夹角和光束的偏振态，获得相交于一点的干涉光。
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