[发明专利]计算光刻系统模型中混叠现象的处理方法有效

专利信息
申请号: 201910443195.X 申请日: 2019-05-27
公开(公告)号: CN109977933B 公开(公告)日: 2019-09-03
发明(设计)人: 阎江;崔绍春;陈雪莲;梁文清 申请(专利权)人: 墨研计算科学(南京)有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G06F17/15;G06F17/14
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 210031 江苏省南京市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请公开了一种计算光刻系统模型中混叠现象的处理方法,该方法包括:根据有效采样范围和预先设定的空间采样间隔,确定对掩模函数离散采样的采样点数量,掩模函数用于表示掩模版的几何形状;根据空间采样间隔,建立抗混叠滤波函数,抗混叠滤波函数用于限制掩模函数在频域空间上的带宽;根据抗混叠滤波函数和采样点数量,针对抗混叠滤波函数和掩模函数采取卷积运算,获取对掩模函数滤波后的空间采样讯号;卷积运算空间采样讯号和核函数,确定光强分布。在本申请中,通过抗混叠滤波函数,在对掩模函数进行滤波采样来限制掩模函数的带宽,从而避免出现混叠现象导致光强计算失真,能够提高计算光刻模型的准确性。
搜索关键词: 掩模函数 抗混叠滤波 混叠 空间采样间隔 采样讯号 光刻系统 卷积运算 采样点 滤波 带宽 有效采样范围 光强分布 光强计算 离散采样 频域空间 核函数 掩模版 采样 光刻 申请 失真
【主权项】:
1.一种计算光刻系统模型中混叠现象的处理方法,其特征在于,所述方法包括:根据有效采样范围和预先设定的空间采样间隔,确定对掩模函数离散采样的采样点数量,所述有效采样范围是一阶贝塞尔函数(Bessel Function)的第九个零根,所述掩模函数用于表示掩模版的几何形状;根据所述空间采样间隔,建立抗混叠滤波函数,所述抗混叠滤波函数用于限制所述掩模函数在频域空间上的带宽;根据所述抗混叠滤波函数和所述采样点数量,对所述抗混叠滤波函数和所述掩模函数采用卷积运算,获取对所述掩模函数和所述抗混叠滤波函数处理后的空间采样讯号;其中,所述根据所述空间采样间隔,建立抗混叠滤波函数,包括:根据如下关系式建立所述抗混叠滤波函数AAF(x,y)=AAF(r,θ)=W(r)×J1(2πrNA/λ)/r其中,AAF(x,y)表示所述抗混叠滤波函数,(x,y)是采样点的笛卡尔坐标,(r,θ)是采样点的极坐标,NA是光瞳透镜的孔径数值,λ是光源的波长,J1(2πrNA/λ)为所述一阶贝塞尔函数,W(r)为如下窗函数γ1,9为所述一阶贝塞尔函数的第九个零根;其中,所述对所述抗混叠滤波函数和所述掩模函数采用卷积运算,包括:对所述掩模函数进行分解,将所述掩模函数分解为基本图形单元,其中:根据如下关系式建立所述基本图形单元m0(x,y)=1、x,y∈{y≥0,x+y≥0}其中,m0(x,y)表示所述基本图形单元描述的八分之三无穷平面,x,y∈{y≥0,x+y≥0}用于定义所述八分之三无穷平面;根据如下关系式分解所述掩模函数m(x,y)=∑α×m0(x,y)+∑β×m0(y,‑x)+∑γ×m0(x,‑y)其中,α是m0(x,y)所表示的分解图形单元对应的系数,β是m0(y,‑x)所表示的分解图形单元对应的系数,γ是m0(x,‑y)所表示的分解图形单元对应的系数,m0(y,‑x)图形单元为所述基本图形单元关于笛卡尔坐标系旋转90度,m0(x,‑y)图形单元与所述基本图形单元关于x轴对称;根据所述掩模函数的分解结果,对所述抗混叠滤波函数和所述掩模函数进行卷积运算。
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