[发明专利]一种化学机械平坦化设备在审
| 申请号： | 201910443235.0 | 申请日： | 2019-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN110039441A | 公开（公告）日： | 2019-07-23 |
| 发明（设计）人： | 顾海洋;杨思远 | 申请（专利权）人： | 杭州众硅电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/34;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 张妍;刘琰 |
| 地址： | 311305 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械平坦化设备，该化学机械平坦化设备包括：多排多个抛光单元；设置在多排抛光单元一侧的转载台，用于放置待抛光的晶圆和清洗干燥后的晶圆；设置在相邻两排抛光单元之间的至少一排多个装卸台，用于临时放置待抛光的晶圆及抛光后的晶圆；与多排抛光单元平行设置的至少一排清洗及干燥单元；设置在多排抛光单元另一侧的输送单元，用于将抛光后的晶圆输送至清洗及干燥单元一侧；以及用于取放晶圆的机械手。本发明将化学机械平坦化和湿法清洗两个工艺步骤简化为一步完成，可以实现晶圆的干进和干出。无需抛光后的自带清洗，减少独立化学机械平坦化设备和湿法清洗设备所占用的净化间面积，简化了工艺步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 晶圆 化学机械平坦化 抛光单元 抛光 多排 清洗 干燥单元 工艺步骤 湿法清洗设备 平行设置 清洗干燥 湿法清洗 输送单元 一步完成 机械手 净化间 装卸台 两排 取放 自带 占用 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械平坦化设备，其特征在于，包括：多排多个抛光单元；设置在多排抛光单元一侧的转载台，用于放置待抛光的晶圆和清洗干燥后的晶圆；设置在相邻两排抛光单元之间的至少一排多个装卸台，用于临时放置待抛光的晶圆及抛光后的晶圆；与多排抛光单元平行设置的至少一排清洗及干燥单元；设置在多排抛光单元另一侧的输送单元，用于将抛光后的晶圆输送至清洗及干燥单元一侧；以及用于取放晶圆的机械手。
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