[发明专利]一种晶圆抛光主轴的密封结构在审
| 申请号： | 201910444125.6 | 申请日： | 2019-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN110052950A | 公开（公告）日： | 2019-07-26 |
| 发明（设计）人： | 杨思远;刘琛 | 申请（专利权）人： | 杭州众硅电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/04;B24B41/00;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 张妍;刘琰 |
| 地址： | 311305 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种晶圆抛光主轴的密封结构，包含主轴转子，其端部有旋转法兰与主轴转子同步转动，旋转法兰内部设有旋转密封圈，主轴定子与旋转法兰同侧的端面上设置倒置法兰，倒置法兰中含有吸气通道，所述旋转法兰与所述倒置法兰通过旋转密封圈贴合密封，比如通过O型圈预紧。旋转密封圈和倒置法兰的间隙保持在0.15mm‑0.25mm范围。本发明通过在主轴定子的端面上设置倒置法兰，旋转法兰与倒置法兰通过旋转密封圈贴合密封，可以形成一种稳定可靠的密封结构，以隔绝外部加工环境的酸碱气体对主轴内部结构进行侵蚀。由于倒置法兰的内部设有气路，可以清除间隙部位的气体和杂质，使得旋转密封圈因摩擦而析出的杂质不会直接掉落在抛光头和晶圆表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 倒置 法兰 旋转密封圈 旋转法兰 密封结构 抛光主轴 贴合密封 主轴转子 种晶 析出 间隙保持 间隙部位 晶圆表面 同步转动 吸气通道 主轴内部 抛光头 掉落 气路 酸碱 同侧 预紧 摩擦 侵蚀 外部 加工 | ||
【主权项】：
1.一种晶圆抛光主轴的密封结构，其特征在于，包含：主轴转子(1)，其端部有旋转法兰(2)与主轴转子(1)同步转动，旋转法兰(2)内部设有旋转密封圈(3)，主轴定子(5)与旋转法兰(2)同侧的端面上设置倒置法兰(4)，倒置法兰(4)中含有吸气通道，所述旋转法兰(2)与所述倒置法兰(4)通过旋转密封圈(3)贴合密封。
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