[发明专利]一种蒸镀装置在审
| 申请号： | 201910444650.8 | 申请日： | 2019-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN110093585A | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | 裴凤巍 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蒸镀装置，包括坩埚本体、喷嘴、上盖板和角度板，其中所述角度板包括第一角度板和第二角度板，分别设置在所述上盖板的两侧端部上，所述喷嘴设置在所述上盖板中并向下与设置在所述上盖板下的所述坩埚本体相通；其征在于，其中所述上盖板内还设置有加热圈，所述加热圈包围所述喷嘴并用于对所述喷嘴进行加热处理。本发明提供一种蒸镀装置，通过角度板的凹槽型设计，避免因沉积在角度板上的材料过多下滑至喷嘴口进而堵塞喷嘴，提高了蒸镀出去的蒸镀材料的厚度均一性，进而提高产品的光学性能，为长时间高品质生产提供保证。 | ||
| 搜索关键词： | 角度板 喷嘴 上盖板 蒸镀装置 坩埚本体 加热圈 厚度均一性 光学性能 加热处理 两侧端部 蒸镀材料 凹槽型 高品质 喷嘴口 蒸镀 沉积 相通 包围 堵塞 保证 生产 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀装置，包括坩埚、喷嘴、上部盖板和角度板，其中所述角度板包括第一角度板和第二角度板，分别设置在所述上部盖板的两侧端部上，所述喷嘴设置在所述上部盖板中并向下与设置在所述上部盖板下的所述坩埚相通；其特征在于，所述上部盖板内还设置有加热圈，所述加热圈包围所述喷嘴并用于对所述喷嘴进行加热处理。
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