[发明专利]一种具有高载流子浓度的SnSe晶体及其生长方法和应用有效

专利信息
申请号: 201910444904.6 申请日: 2019-05-27
公开(公告)号: CN110129878B 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 姚淑华;张航飞;吕洋洋;曹琳;陈延彬;陈延峰 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: C30B9/12 分类号: C30B9/12;C30B29/46;H01L35/16
代理公司: 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 代理人: 汪泉
地址: 210093 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种具有高载流子浓度的SnSe晶体及其制备方法和应用。所述SnSe晶体采用助溶剂法生长,设备简单,成本低廉,晶体生长周期较短,有利于工业化生产,且发明人发现,采用NaCl作为助熔剂进行SnSe晶体生长,极大提升了SnSe晶体材料的电学性能。本发明仅需使用SnSe纯净粉体原料(Sn和Se按照化学计量比配料),无需刻意掺杂其他元素或者非化学计量比配料,所得到的晶体即可自掺杂一定量的SnSe2,且载流子浓度在2K~300K范围内都是1019/cm3量级,具有优良的SnSe材料的电学性能,可有效地拓宽SnSe材料的高ZT值窗口,在热电应用方面具有重要意义。
搜索关键词: 一种 具有 载流子 浓度 snse 晶体 及其 生长 方法 应用
【主权项】:
1.一种具有高载流子浓度的SnSe晶体,其特征在于,所述SnSe晶体的导电性能呈金属特性,在2K~300K温度下,所述SnSe晶体的载流子浓度在1019/cm3量级,优选2.75×1019~2.88×1019/cm3,所述SnSe晶体的电阻率低于2.5mΩ·cm,优选为约0.37~2.22mΩ·cm。
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