[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 201910451330.5 | 申请日： | 2019-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN110553489B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 朴庸硕 | 申请（专利权）人： | 显示器生产服务株式会社 |
| 主分类号： | F26B15/12 | 分类号： | F26B15/12;F26B21/00;F26B25/00 |
| 代理公司： | 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 | 代理人： | 方挺;黄谦 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板处理装置，其照射紫外线使基板干燥，并且，能够进行使基板的表面具有亲水性的处理。本发明提供的基板处理装置包括：灯组件，包括紫外线灯和反射罩，上述紫外线灯将紫外线照射到通过传送装置传送的基板，上述反射罩配置在上述紫外线灯的上侧，将从上述紫外线灯照射的紫外线反射向基板；气体供应排出装置，设置在上述基板的上侧，用于向上述基板的上面供应气体并排出沿着上述基板的上表面移动的流体；以及壳体，具有容纳空间，上述容纳空间容纳通过上述紫外线灯加热的气体。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：/n灯组件，包括紫外线灯和反射罩，所述紫外线灯将紫外线照射到通过传送装置传送的基板，所述反射罩配置在所述紫外线灯的上侧，将从所述紫外线灯照射的紫外线向所述基板反射；/n气体供应排出装置，设置在所述基板的上侧，用于向所述基板的上表面供应气体并排出沿着所述基板的上表面移动的流体；以及/n壳体，具有容纳空间，所述容纳空间容纳通过所述紫外线灯加热的气体，/n所述气体供应排出装置包括：/n供气室，设置在所述基板的上侧并在内部形成供气空间，所述灯组件配置在所述供气空间上，具有从外部向所述供气空间供应气体的供气口；以及/n排气室，沿着所述基板的传送方向设置在所述供气室的一侧，在内部形成有排气空间，具有排出存在于所述排气空间上的流体的排气口。/n
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