[发明专利]具有用于边缘均匀性控制的可调整调节环的工艺配件在审
| 申请号： | 201910455516.8 | 申请日： | 2019-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN110544611A | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | Y·萨罗德维舍瓦纳斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/21 | 分类号： | H01J37/21;H01J37/32 |
| 代理公司： | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了用于处理基板的工艺配件、处理腔室和方法。所述工艺配件包括边缘环、可调整调节环、以及致动机构。所述边缘环具有第一环部件，所述第一环部件与相对于所述第一环部件可移动的第二环部件相接，在所述第一环部件和所述第二环部件之间形成间隙。所述第二环部件的下表面包含上部对准耦合件，且所述可调整调节环的上表面包含下部对准耦合件。所述可调整调节环的所述下部对准耦合件被配置成与所述第二环部件的所述上部对准耦合件相配合，以形成界面。所述致动机构与所述可调整调节环的下表面相接。所述致动机构被配置为致动所述可调整调节环，使得所述第一环部件与所述第二环部件之间的间隙改变。 | ||
| 搜索关键词： | 环部件 可调整 对准耦合 致动机构 工艺配件 边缘环 下表面 处理基板 处理腔室 可移动 上表面 配置 致动 配合 | ||
【主权项】：
1.一种用于基板处理腔室的工艺配件，所述工艺配件包括：/n边缘环，所述边缘环具有第一环部件和第二环部件，所述第一环部件与所述第二环部件相接，使得所述第二环部件相对于所述第一环部件是可移动的，在所述第一环部件与所述第二环部件之间形成间隙，所述第二环部件具有上表面和下表面，所述第二环部件的下表面包括上部对准耦合件；/n可调整调节环，所述可调整调节环定位在所述边缘环下方，所述可调整调节环具有上表面和下表面，所述可调整调节环的上表面包括下部对准耦合件，所述可调整调节环的上表面被配置成与所述第二环部件的下表面接触，并且所述可调整调节环的所述下部对准耦合件被配置成与所述第二环部件的所述上部对准耦合件相配合以形成界面；以及/n致动机构，所述致动机构与所述可调整调节环的下表面相接，所述致动机构被配置为致动所述可调整调节环，使得所述第一环部件与所述第二环部件之间的间隙改变。/n
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