[发明专利]一种高透明性阻隔膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910455700.2 申请日: 2019-05-29
公开(公告)号: CN110172674A 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 胡文玮 申请(专利权)人: 汕头万顺新材集团股份有限公司
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30;C23C14/26;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/10
代理公司: 广州知顺知识产权代理事务所(普通合伙) 44401 代理人: 彭志坚;张海英
地址: 515078 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种高透明性阻隔膜及其制备方法,其中,稿透明性阻隔膜包括基膜,于基膜上形成一阻隔层,阻隔层为一混合金属‑硅‑氮氧化合物层,且阻隔层的折射率介于1.5~2.2之间,厚度介于20~60nm之间。本发明的高透明性阻隔膜及其制备方法生产稳定性高,且阻隔性能优异,有效减少水气侵入。
搜索关键词: 阻隔膜 高透明性 阻隔层 制备 基膜 氮氧化合物层 生产稳定性 混合金属 有效减少 阻隔性能 折射率 水气 侵入
【主权项】:
1.一种高透明性阻隔膜,其特征在于,包括:基膜,于所述基膜上形成一阻隔层,所述阻隔层为混合金属‑硅‑氮氧化合物层,且所述阻隔层的折射率介于1.5~2.2之间,厚度介于20nm~60nm之间。
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