[发明专利]一种浮结型肖特基势垒二极管及其制作方法在审
申请号: | 201910458067.2 | 申请日: | 2019-05-29 |
公开(公告)号: | CN110323283A | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 宋庆文;张玉明;汤晓燕;袁昊;吴勇;何艳静;韩超;梁家铖 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学芜湖研究院 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L21/329 |
代理公司: | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 刘长春 |
地址: | 241000 安徽省芜湖市弋江区高*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种浮结型肖特基势垒二极管,包括:衬底层1;外延层2,位于所述衬底层1上层;浮结层4,位于所述外延层2上层的两侧;绝缘型多晶硅层5,位于所述浮结层4上层;沟槽6,位于所述绝缘型多晶硅层5上层;肖特基接触阴极7,位于所述衬底层1下层;肖特基接触阳极8,覆盖所述外延层2、所述绝缘型多晶硅层5和所述沟槽6。本发明提出的二极管,通过改善浮结型肖特基势垒二极管的工艺步骤,不需要二次生长外延层,增大了器件击穿电压,减小了导通电阻,提升了功率优值,降低了工艺难度和成本。 | ||
搜索关键词: | 外延层 肖特基势垒二极管 多晶硅层 衬底层 绝缘型 上层 结型 肖特基接触 结层 阴极 器件击穿电压 二极管 阳极 导通电阻 二次生长 工艺步骤 工艺难度 减小 下层 覆盖 制作 | ||
【主权项】:
1.一种浮结型肖特基势垒二极管,其特征在于,包括:衬底层(1);外延层(2),位于所述衬底层(1)上层;浮结层(4),位于所述外延层(2)上层的两侧;绝缘型多晶硅层(5),位于所述浮结层(4)上层;沟槽(6),位于所述绝缘型多晶硅层(5)上层;肖特基接触阴极(7),位于所述衬底层(1)下层;肖特基接触阳极(8),覆盖所述外延层(2)、所述绝缘型多晶硅层(5)和所述沟槽(6)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学芜湖研究院,未经西安电子科技大学芜湖研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910458067.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类