[发明专利]一种基于投影式无掩膜光刻设备的对准套刻光路及其方法

摘要

本发明公开一种基于投影式无掩膜光刻设备的对准套刻光路及其方法，应用于无掩膜光刻技术领域，针对传统的掩模光刻对准系统要在掩模版上构造标记，对于投影式无掩膜光刻设备，传统的对准方式不适用的问题，本发明通过透镜或透镜组准直对准光源产生的光束；通过合束光学元件将光束耦合进投影曝光主光路；对准光束照射到图像生成装置后反射，形成对准图形；对准图形经过微缩透镜组实现图像的微缩投影；调整工件台的垂直距离实现对准图形在待光刻基片的清晰成像；调整工件台的水平坐标和旋转角度，实现对准图形与待光刻基片的位置对准；最后打开曝光光源，完成投影曝光；实现了投影式无掩膜光刻设备的对准套刻。

主权项

1.一种基于投影式无掩膜光刻的对准套刻光路，其特征在于，包括：对准光路与投影曝光主光路；所述对准光路包括：对准光源、第一准直镜、反射镜，对准光源出射的第一光束经第一准直镜对准后，从反射镜射出；所述从对准光路反射镜射出的第一光束通过第一合束镜耦合进投影曝光主光路；所述投影曝光主光路至少还包括：光刻曝光光源、匀束元件、准直扩束镜组、图像生成装置、微缩透镜组、工件位移台；经第一合束镜耦合进投影曝光主光路的第一光束照射到图像生成装置后反射，形成对准图形；对准图形经微缩透镜组微缩投影至工件位移台上的待光刻基片；光刻曝光光源出射的光束依次经匀束元件、准直扩束镜组、图像生成装置、微缩透镜组后，进行对准图形在基片上的光刻；还包括相机校准光路，包括：分束镜、相机，产生对准图形后，光束依次经第一分束镜、镜筒透镜、物镜，到达工件位移台，照射到待光刻基片上；基片的反射光束依次经物镜、镜筒透镜，经第一分束镜分光，到达相机；还包括照明光路，包括：照明光源、高通滤光片、第二准直镜，从照明光源出射的第二光束通过第二合束镜耦合进投影曝光主光路。