[发明专利]光掩模坯料、制造光掩模的方法和光掩模

摘要

本发明提供一种光掩模坯料、制造光掩模的方法和光掩模。具体提供一种光掩模坯料，其在基板上包括加工膜和由含铬材料制成的膜，所述由含铬材料制成的膜形成为与加工膜接触并具有第一、第二和第三层的三层结构，所述第一、第二和第三层的每个层都含铬、氧和氮，其中第一层的铬含量为40原子％以下，氧含量为50原子％以上，氮含量为10原子％以下，厚度为20nm以上，第二层的铬含量为50原子％以上，氧含量为20原子％以下，氮含量为30原子％以上，第三层的铬含量为40原子％以下，氧含量为50原子％以上，氮含量为10原子％以下。

主权项

1.一种光掩模坯料，其包括：基板、由含铬材料制成的膜、以及加工膜，所述加工膜形成为与由含铬材料制成的膜的靠近基板的一侧接触，并且通过使用由含铬材料制成的膜的图案作为蚀刻掩模对所述加工膜进行加工，/n其中由含铬材料制成的膜是具有三层结构的叠层膜，所述三层结构从远离基板的一侧起包括第一层、第二层和第三层，所述第一层、第二层和第三层的每一层都含有铬、氧和氮，/n所述第一层的铬含量为40原子％以下、氧含量为50原子％以上、氮含量为10原子％以下、厚度为20nm以上，/n所述第二层的铬含量为50原子％以上、氧含量为20原子％以下、氮含量为30原子％以上，且/n所述第三层的铬含量为40原子％以下、氧含量为50原子％以上、氮含量为10原子％以下。/n