[发明专利]等离子体处理装置中气体输送系统的耐腐蚀结构有效

专利信息
申请号: 201910466981.1 申请日: 2019-05-31
公开(公告)号: CN112017932B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 连增迪;左涛涛;吴迪;关瑜;陈星建;刘身健;倪图强 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 包姝晴;张静洁
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种等离子体处理装置中气体输送系统的耐腐蚀结构,在衬套的气体通道等处设有耐腐蚀性材料的镀层,避免与所输送的腐蚀性气体反应,减少金属污染和颗粒。本发明反向地安装喷嘴,使其可靠地覆盖出气孔内的镀层,以防止耐腐蚀性材料被腔体内产生的等离子体破坏。本发明在喷嘴暴露于腔体一侧的表面形成有耐腐蚀的氧化钇涂层,阻挡等离子体对喷嘴的侵蚀。本发明还在衬套与介质窗及腔体接触的密封面也使用了柔韧的耐腐蚀性材料,如特氟龙,来提高衬套整体的密封效果。本发明可以有效提升衬套的耐腐蚀性、密封性,增加其服役寿命,提高等离子体处理装置的运行稳定性。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置 气体 输送 系统 腐蚀 结构
【主权项】:
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