[发明专利]一种平面微小极距多极充磁方法有效

专利信息
申请号: 201910482026.7 申请日: 2019-06-04
公开(公告)号: CN110189884B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 魏中华;何剑锋;吕婷茹 申请(专利权)人: 浙江英洛华磁业有限公司
主分类号: H01F13/00 分类号: H01F13/00
代理公司: 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 代理人: 欧阳俊
地址: 322118 浙江省金华市东阳*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种平面微小极距多极充磁方法,包括以下步骤:将需要充磁的磁体放入充磁线圈进行单向饱和充磁,在磁体待充磁面形成单一磁极;在磁体待充磁面上放置齿形导磁模具,对与齿形导磁模具接触的P个区域进行反向充磁,其余没接触的P个区域磁极不变;平面形成2P个磁极,完成平面多极充磁。本发明的优点是:采用齿形导磁模具进行充磁,利用磁场传导的方式对部分区域进行反向充磁,获得相反磁极,形成多极充磁,并且不用在模具的齿上布置导线,从而可以极大的降低导磁模具齿形的宽度,可以适应磁极宽度小于2mm的磁面充磁。
搜索关键词: 一种 平面 微小 多极 充磁 方法
【主权项】:
1.一种平面微小极距多极充磁方法,其特征在于:包括以下步骤:A、将需要充磁的磁体放入充磁线圈进行单向饱和充磁,在磁体待充磁面形成单一磁极;B、在磁体待充磁面上放置齿形导磁模具,对与齿形导磁模具接触的P个区域进行反向充磁,其余没接触的P个区域磁极不变;C、平面形成2P个磁极,完成平面多极充磁。
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