[发明专利]一种平面微小极距多极充磁方法有效
申请号: | 201910482026.7 | 申请日: | 2019-06-04 |
公开(公告)号: | CN110189884B | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 魏中华;何剑锋;吕婷茹 | 申请(专利权)人: | 浙江英洛华磁业有限公司 |
主分类号: | H01F13/00 | 分类号: | H01F13/00 |
代理公司: | 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 | 代理人: | 欧阳俊 |
地址: | 322118 浙江省金华市东阳*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种平面微小极距多极充磁方法,包括以下步骤:将需要充磁的磁体放入充磁线圈进行单向饱和充磁,在磁体待充磁面形成单一磁极;在磁体待充磁面上放置齿形导磁模具,对与齿形导磁模具接触的P个区域进行反向充磁,其余没接触的P个区域磁极不变;平面形成2P个磁极,完成平面多极充磁。本发明的优点是:采用齿形导磁模具进行充磁,利用磁场传导的方式对部分区域进行反向充磁,获得相反磁极,形成多极充磁,并且不用在模具的齿上布置导线,从而可以极大的降低导磁模具齿形的宽度,可以适应磁极宽度小于2mm的磁面充磁。 | ||
搜索关键词: | 一种 平面 微小 多极 充磁 方法 | ||
【主权项】:
1.一种平面微小极距多极充磁方法,其特征在于:包括以下步骤:A、将需要充磁的磁体放入充磁线圈进行单向饱和充磁,在磁体待充磁面形成单一磁极;B、在磁体待充磁面上放置齿形导磁模具,对与齿形导磁模具接触的P个区域进行反向充磁,其余没接触的P个区域磁极不变;C、平面形成2P个磁极,完成平面多极充磁。
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