[发明专利]一种工件侧进式双真空室离子束加工系统有效
申请号: | 201910483330.3 | 申请日: | 2019-06-04 |
公开(公告)号: | CN110265279B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 长沙埃福思科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/18 | 分类号: | H01J37/18;H01J37/20;H01J37/30 |
代理公司: | 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 | 代理人: | 杨斌 |
地址: | 410005 湖南省长沙*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种工件侧进式双真空室离子束加工系统,包括通过插板阀可相互连通的主真空室和副真空室,主真空室中设有离子源,副真空室中设有带动工件运动的工件运动机构,副真空室位于主真空室的侧向,且插板阀所在平面M与离子源的照射方向基本平行,待加工的工件在工件运动机构上设定的抛光面N与离子源的照射方向基本垂直,且工件运动机构的运动方向与离子源的照射方向基本垂直。本发明的工件侧进式双真空室离子束加工系统具有插板阀尺寸小、整机结构优化等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 工件 侧进式双 真空 离子束 加工 系统 | ||
【主权项】:
1.一种工件侧进式双真空室离子束加工系统,包括通过插板阀(3)可相互连通的主真空室(1)和副真空室(2),所述主真空室(1)中设有离子源(4),所述副真空室(2)中设有带动工件(8)运动的工件运动机构(6),其特征在于:所述副真空室(2)位于所述主真空室(1)的侧向,且所述插板阀(3)所在平面M与所述离子源(4)的照射方向基本平行,待加工的工件(8)在所述工件运动机构(6)上设定的抛光面N与所述离子源(4)的照射方向基本垂直,且所述工件运动机构(6)的运动方向与所述离子源(4)的照射方向基本垂直。
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