[发明专利]一种通过成像法获取涂层双向反射分布函数仿真参数的方法有效
| 申请号： | 201910484740.X | 申请日： | 2019-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN110298082B | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 朱长林;王艳春 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨新光光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150001 黑龙江省*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明为了解决技术中的BRDF测量方法不能既能满足实时仿真平台的输入参数要求，又能满足测量精度的缺陷，而提出一种通过成像法获取涂层双向反射分布函数仿真参数的方法，包括：使表面带有涂层的标准球放置在平行光源下形成阴影；通过成像设备对标准球进行多次成像，每次成像时记录成像设备、标准球和阴影之间的两两距离；根据成像设备、标准球和阴影之间的两两距离计算入射光线反方向J与出射光O的夹角的余弦；根据成像设备获取的照片计算圆心的像素位置坐标；计算J在照片平面内的方位角β；计算像圆内每个像素点的宏观法线方向Z的的方位角以及Z与O的夹角γ；最后通过解析公式进行拟合。本发明适用于半实物仿真平台的目标材质仿真。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 成像 获取 涂层 双向 反射 分布 函数 仿真 参数 方法 | ||
【主权项】：
1.一种通过成像法获取涂层双向反射分布函数仿真参数的方法，其特征在于，包括测量步骤、拟合前计算步骤和拟合步骤，其中，测量步骤包括：使表面带有涂层的标准球放置在平行光源下形成阴影；通过成像设备对标准球进行多次成像，每次成像时记录成像设备、标准球和阴影之间的两两距离；拟合前计算步骤包括：根据成像设备、标准球和阴影之间的两两距离计算入射光线反方向J与出射光O的夹角的余弦；根据成像设备获取的照片计算圆心的像素位置坐标；计算J在照片平面内的方位角β；计算像圆内每个像素点的宏观法线方向Z的的方位角φ以及Z与O的夹角γ；拟合步骤包括：通过以下解析公式对亮度值L进行拟合：L＝L0+L1+L2+L3+L4得到金属性M、粗糙度R、谱因子F0的拟合结果；L0为标准球的自发辐射；L1为标准球反射的主光源辐射；L2为标准球反射的拍摄者辐射；L3为标准球反射的固定昏暗背景辐射；L4为标准球到成像设备路径上的空气自发辐射。
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