[发明专利]镀膜装置及物理气相沉积设备有效
| 申请号： | 201910491693.1 | 申请日： | 2019-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN110106481B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 景江;陈昀德;崔赢兮;乔慧娜;刘正德;彭乐;孙禄标 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;张博 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种镀膜装置及物理气相沉积设备，属于显示技术领域。镀膜装置包括：反应腔室；位于所述反应腔室内，相互平行的第一电极板和第二电极板；位于所述第一电极板和所述第二电极板之间的靶材；位于所述反应腔室内的基板载台，所述基板载台用以承载待镀膜基板；其中，所述第一电极板和所述第二电极板中的至少一个设置有用以通入反应气体的通孔。本发明的技术方案既能够降低PVD装置的生产成本和操作的复杂性，同时也能够提高镀膜的均匀性和靶材的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 装置 及物 理气 沉积 设备 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜装置，其特征在于，包括：反应腔室；位于所述反应腔室内，相互平行的第一电极板和第二电极板；位于所述第一电极板和所述第二电极板之间的靶材；位于所述反应腔室内的基板载台，所述基板载台用以承载待镀膜基板；其中，所述第一电极板和所述第二电极板中的至少一个设置有用以通入反应气体的通孔。
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