[发明专利]一种SD-OCT图像的青瓷釉层厚度测量方法有效
申请号: | 201910491840.5 | 申请日: | 2019-06-06 |
公开(公告)号: | CN110146027B | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 周扬;石龙杰;刘铁兵;施秧;汪凤林;黄俊;陈正伟;岑岗;周武杰;刘喜昂;吴茗蔚;吴迪;陈芳妮;陈才 | 申请(专利权)人: | 浙江科技学院 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01B21/04;G01N21/41 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林超 |
地址: | 310023 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种SD‑OCT图像的青瓷釉层厚度测量方法。通过测量样本青瓷釉层的厚度,建立不同类型青瓷釉层折射率的数据库;采集青瓷釉层的SD‑OCT图像;通过对青瓷釉层的SD‑OCT图像滤波和二值化,定位釉层的上边界;再边缘检测设计结构元素,使用结构元素对边缘检测后的图像进行闭运算,提取青瓷釉层下边界;釉层上下边界像素的差值乘以每个像素的物理深度计算青瓷釉层的厚度。本发明方法实现了青瓷釉层厚度的无损实时测量,测量精度达到微米级,精确度高,根据建立的青瓷釉层折射率数据库,能够测量各种青瓷的釉层厚度,具有较强的适应性,提高了测量的效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 sd oct 图像 青瓷 厚度 测量方法 | ||
【主权项】:
1.一种SD‑OCT图像的青瓷釉层厚度测量方法,其特征在于包括以下步骤1)建立不同类型青瓷釉层折射率的数据库;2)采集青瓷釉层的SD‑OCT图像;3)提取青瓷釉层上边界;4)提取青瓷釉层下边界;5)计算青瓷釉层的厚度。
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