[发明专利]蒸发源及蒸镀方法有效
| 申请号： | 201910492249.1 | 申请日： | 2019-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN110093586B | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 刘金彪 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26;C23C14/54;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 于小凤 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蒸发源及蒸镀方法，用以解决相关技术中，蒸镀成膜的膜厚不均匀的问题。其中，蒸发源包括：坩埚、加热器以及反射组件；所述坩埚的至少一面依次设置有所述加热器以及所述反射组件，所述反射组件的反射面与所述加热器相对，所述反射组件上设置有大小可调的开口；所述坩埚本体的顶面具有喷嘴，所述坩埚内具有加热可气化的材料，气化状态的所述材料通过所述喷嘴喷出。本发明可提高蒸镀成膜的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发源，其特征在于，包括：坩埚、加热器以及反射组件；所述坩埚的至少一面依次设置有所述加热器以及所述反射组件，所述反射组件的反射面与所述加热器相对，所述反射组件上设置有大小可调的开口；所述坩埚本体的顶面具有喷嘴，所述坩埚内具有加热可气化的材料，气化状态的所述材料通过所述喷嘴喷出。
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