[发明专利]多通道脉冲电弧等离子体流动控制装置及其促进边界层转捩的方法有效

专利信息
申请号: 201910495447.3 申请日: 2019-05-28
公开(公告)号: CN110203374B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 吴云;唐孟潇;张志波;郭善广;金迪;梁华;甘甜 申请(专利权)人: 中国人民解放军空军工程大学
主分类号: B64C21/00 分类号: B64C21/00
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 710051 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种多通道脉冲电弧等离子体流动控制电路系统,包括平板(1),放电电极(2),激励块(3),高频脉冲电源(4),以及在激励块上加工的用于固定电极的圆柱形垂直通孔(5)。还提供一种多通道脉冲电弧等离子体激励促进边界层转捩的方法。通过多通道脉冲电弧等离子体激励这个新思路,可以有效增加扰动区域大小,提高扰动频率,促进超声速边界层发生转捩。
搜索关键词: 通道 脉冲 电弧 等离子体 流动 控制 装置 及其 促进 边界层 转捩 方法
【主权项】:
1.一种多通道脉冲电弧等离子体流动控制装置,包括平板(1),放电电极(2),激励块(3),以及在激励块上加工的用于固定电极的圆柱形垂直通孔(5);其特征在于:平板(1)一端为楔形,靠近楔形部的上表面开有与激励块(3)尺寸相同的长方形凹槽,用于实验时对激励块(3)进行固定;激励块(3)上加工有用于固定电极的圆柱形垂直通孔(5),圆柱形垂直通孔(5)分为上下两级通孔,下部通孔直径大于上部通孔直径;垂直通孔(5)个数为偶数个,在激励块(3)上呈N×M阵列式排布,其中流向N个,展向M个,N为非零自然数,M为偶数,具体个数根据需要确定;平板(1)和激励块(3)均采用耐高温陶瓷材料制成;放电电极(2)形状为圆柱形,直径略小于圆柱形垂直通孔(5)的上部通孔直径,便于放入;圆柱形垂直通孔(5)的下部通孔内放置有与下部通孔尺寸相适应的绝缘介质圆柱,放电电极(2)的下半部分穿过绝缘介质圆柱后,通过导线引出;将放电电极(2)安装进入圆柱形垂直通孔(5)的上部通孔内,装配后放电电极(2)的上表面与平板(1)上表面齐平;放电电极(2)的材料采用耐高温金属。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军空军工程大学,未经中国人民解放军空军工程大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910495447.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top