[发明专利]一种基于双面超导薄膜的可重构限流器在审
| 申请号： | 201910497022.6 | 申请日： | 2019-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN110112719A | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 严仲明;梁乐;王豫;何应达 | 申请（专利权）人： | 西南交通大学 |
| 主分类号： | H02H9/02 | 分类号： | H02H9/02 |
| 代理公司： | 成都信博专利代理有限责任公司 51200 | 代理人： | 王沙沙 |
| 地址： | 610031 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于双面超导薄膜的可重构限流器，包括基底和对称设置在基底两侧结构相同的第一超导层和第二超导层；第一超导层与基底接触面设置有通过光刻得到的多个限流单元；限流单元包括用于电流流入的第一接口和用于电流流出的第二接口，及设置在第一接口和第二接口之间的电流路径；第一接口和第二接口之间的两条电流路径左右对称设置；本发明通过单面超导限流单元的可重构，可实现不同的限流效果及限流单元之的同步失超；通过双面超导薄膜限流单元之间的可重构可应对不同的工作需求及限流容量的扩展。 | ||
| 搜索关键词： | 限流单元 可重构 双面超导薄膜 超导层 电流路径 限流器 基底 限流 左右对称设置 超导限流 对称设置 工作需求 基底两侧 光刻 失超 流出 | ||
【主权项】：
1.一种基于双面超导薄膜的可重构限流器，其特征在于，包括基底(1)和对称设置在基底(1)两侧结构相同的第一超导层(2)和第二超导层(4)；第一超导层(2)与基底(1)接触面设置有通过光刻得到的多个限流单元；限流单元包括用于电流流入的第一接口和用于电流流出的第二接口，及设置在第一接口和第二接口之间的电流路径；第一接口和第二接口之间的两条电流路径左右对称设置。
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