[发明专利]一种磁控溅射设备的可变磁场阴极装置在审
| 申请号： | 201910499556.2 | 申请日： | 2019-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN110106489A | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 雷鸣;李腾腾;陈炜;羊新胜;陈勇;赵勇 | 申请（专利权）人： | 西南交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 成都博通专利事务所 51208 | 代理人： | 陈树明 |
| 地址： | 610031 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种磁控溅射设备的可变磁场阴极装置，其水冷器的背面从中心至边沿依次分为心部、中部和外部三个区域，水冷器背面中部设有圆环状的凸起；在凸起与不锈钢罩正面的间隙内，设置有饼式的、半径与铜背板半径相等的主体线圈；凸起以内的水冷器背面部位与主体线圈之间设置有饼式的心部线圈，凸起以外的水冷器背面部位与主体线圈之间设置有饼式的外部线圈。该装置能实现靶面磁场强度的无级调节、且靶面的径向磁场强度分布均匀、靶材利用率高；以其进行磁控溅射镀膜的参数优化实验的效率高、成本低，得到的实验数据更完整、准确、精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 水冷器 凸起 主体线圈 背面 饼式 磁控溅射设备 可变磁场 阴极装置 心部 磁控溅射镀膜 靶材利用率 不锈钢罩 参数优化 径向磁场 强度分布 实验数据 外部线圈 无级调节 铜背板 圆环状 靶面 磁场 相等 外部 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射设备的可变磁场阴极装置，包括圆盘状的铜背板(3)，靶材(1)通过靶托(9)固定于铜背板(3)正面的凹槽内，铜背板(3)的背面边沿与圆筒状的不锈钢罩(5)的罩沿贴合，不锈钢罩(5)的外周面与圆环形的靶罩(2)的内侧壁螺纹连接，靶罩(2)外套于靶托(9)上；不锈钢罩(5)的内腔中设有不锈钢的水冷器(6)且水冷器(6)固定于铜背板(3)的背面；其特征在于：所述的水冷器(6)的背面从中心至边沿依次分为心部、中部和外部三个区域，水冷器(6)背面的中部设有圆环状的凸起(6a)；在凸起(6a)的顶部与不锈钢罩(5)正面的间隙内，设置有饼式的、半径与铜背板(3)半径相等的主体线圈(4a)；凸起(6a)以内的水冷器(6)背面部位与主体线圈(4a)之间设置有饼式的心部线圈(4b)，凸起(6a)以外的水冷器(6)背面部位与主体线圈(4a)之间设置有饼式的外部线圈(4c)。
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