[发明专利]一种4H-SiC像素肖特基辐射探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910499916.9 申请日: 2019-06-11
公开(公告)号: CN110265500B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 梁晓华;夏晓川;韩冲;梁红伟;崔兴柱 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: H01L31/028 分类号: H01L31/028;H01L31/118;H01L31/18
代理公司: 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 代理人: 司立彬
地址: 100049 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种4H‑SiC像素肖特基辐射探测器及其制备方法。本发明的探测器,其特征在于,包括一像素阵列,其中该像素阵列中每个像素单元的结构自下而上依次为欧姆接触、SiC衬底、SiC外延层以及肖特基接触。其中每个像素单元会同时测量粒子的能量、到达每一个像素单元的时间以及单位时间内所探测到的粒子数等信息,根据这些数据之间的差异,所设计的结构实现一定的位置分辨能力。而且相较于传统单元SiC辐射探测器,所设计的像素辐射探测器,当其中某个像素单元出现损坏时并不影响整个探测器继续工作。
搜索关键词: 一种 sic 像素 肖特基 辐射 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种4H‑SiC像素肖特基辐射探测器,其特征在于,包括一像素阵列,其中该像素阵列中每个像素单元的结构自下而上依次为欧姆接触、SiC衬底、SiC外延层以及肖特基接触。
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