[发明专利]半导体工序的反应副产物捕集装置

摘要

本发明涉及半导体工序的反应副产物捕集装置，其目的在于提供一种半导体工序的反应副产物捕集装置，具备加热套筒和内部捕集塔，其中，所述加热套筒以可拆卸结构安装于外壳部，控制捕集区域，以便将半导体制造工序中使用后排出的含WF6(六氟化钨)的废气所流入的捕集空间的温度均匀地升温为高温，所述内部捕集塔分离成上部和下部，在狭小捕集空间拥有充分的移动路径和时间，以便发生高效率的捕集反应。本发明半导体还包括：加热套筒，其沿外壳部的外周以可拆卸方式安装，提供热源；上部内部捕集塔，使废气向外径方向或中心方向反复变更并下降而被捕集；下部内部捕集塔，使废气根据第三捕集板各区域的形状反复变更并下降而被捕集。