[发明专利]内腔式磁控溅射设备与方法有效
| 申请号： | 201910507198.5 | 申请日： | 2019-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN110205595B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 韩成明;薛道荣;李峰;褚敬堂;刘子毓 | 申请（专利权）人： | 北京道荣新兴能源有限公司;河北道荣新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102300 北京市门头沟区石*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种内腔式连续磁控溅射镀膜设备与方法，包括中空腔室以及传动结构，所述传动结构能够带动镀膜管从中空腔室的一端进入并由另一端穿出；而所述中空腔室由进管室、连续镀膜室以及出管室依次连通组成，在进管室的两端以及在出管室的两端分别设有真空密封阀，使进管室、连续镀膜室以及出管室能够分别密封；在进管室、连续镀膜室以及出管室上分别设有抽气口，使进管室、连续镀膜室以及出管室能够分别抽真空；所述连续镀膜室由外至内分别设有固定套管、环形的磁铁与环形的靶材，所述靶材通过电源线连接至外部电源，在连续镀膜室上设有贯通内外的布气管。本发明可提高靶材利用率，提高镀膜速度以及镀膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 内腔式 磁控溅射 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种内腔式连续磁控溅射镀膜设备，其特征在于：包括中空腔室以及沿中空腔室的长度方向布置的传动结构，其中：所述传动结构能够带动镀膜管从中空腔室的一端进入并由另一端穿出；所述中空腔室由进管室、连续镀膜室以及出管室依次连通组成，在进管室的两端以及在出管室的两端分别设有真空密封阀，使进管室、连续镀膜室以及出管室能够分别密封；在进管室、连续镀膜室以及出管室上分别设有抽气口，使进管室、连续镀膜室以及出管室能够分别抽真空；所述连续镀膜室由外至内分别设有固定套管、环形的磁铁与环形的靶材，所述靶材通过电源线连接至外部电源，在连续镀膜室上设有贯通内外的布气管。
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