[发明专利]一种修复剂及其修复方法和制备光电薄膜的方法有效
| 申请号： | 201910508164.8 | 申请日： | 2019-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN111435705B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 请求不公布姓名 | 申请（专利权）人： | 杭州纤纳光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H10K71/10 | 分类号： | H10K71/10;H10K71/12;H10K71/16;H10K30/50 |
| 代理公司： | 杭州奥创知识产权代理有限公司 33272 | 代理人： | 杨文华 |
| 地址： | 311121 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种修复剂，包括为咪唑盐类离子液体、吡啶盐类离子液体、季铵盐类离子液体、季鏻盐类离子液体、吡咯烷盐类离子液体、哌啶盐类离子液体、功能化离子液体、与碘离子通过氢键络合的有机物、二茂铁类有机物、金属酞菁化合物、金属乙酰丙酮化合物、有机金属、卤键化合物以及有机硼化物中的至少一种。本发明还公开一种使用该修复剂制备光电薄膜的方法。本发明将修复剂沉积在光电薄膜与其接触的界面材料之间，为修复剂与光电薄膜材料提供了一个均匀稳定的反应环境，可在制备过程中控制光电薄膜的晶体生长，极大地改善了光电薄膜的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 修复 及其 方法 制备 光电 薄膜 | ||
【主权项】：
暂无信息
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