[发明专利]合成孔径雷达方位向参数控制方法、装置及存储介质有效

专利信息
申请号: 201910512724.7 申请日: 2019-06-13
公开(公告)号: CN110308447B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 吕继宇;齐向阳;郑慧芳;邓云凯;赵凤军 申请(专利权)人: 中国科学院电子学研究所
主分类号: G01S13/90 分类号: G01S13/90;G01S7/02;G01S7/41
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 王军红;张颖玲
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请实施例公开了一种合成孔径雷达方位向参数控制方法、装置及存储介质,该方法包括:基于条带模式方位分辨率和TopSAR模式方位分辨率的关系确定TopSAR模式下距离向各子带的方位向扫描角速度;基于所述TopSAR模式下同一子带方位向相邻两次成像区域拼接的几何关系确定各子带的子带成像时长和回归时长;根据各子带的所述方位向扫描角速度和所述子带成像时长确定各子带对应的方位向扫描角;根据各子带的所述子带成像时长确定各子带对应的方位向成像长度。满足了工程应用的图像成像质量要求,且依据相邻两次成像区域拼接的几何关系,可以实现TopSAR模式下方位向参数的快速确定。
搜索关键词: 合成孔径雷达 方位 参数 控制 方法 装置 存储 介质
【主权项】:
1.一种合成孔径雷达方位向参数控制方法,其特征在于,所述方法包括:基于条带模式方位分辨率和合成孔径雷达高分辨率宽测绘带对地观测步进扫描TopSAR模式方位分辨率的关系确定TopSAR模式下距离向各子带的方位向扫描角速度;基于所述TopSAR模式下同一子带方位向相邻两次成像区域拼接的几何关系确定各子带的子带成像时长和回归时长,其中,N为所述TopSAR模式下距离向子带数,N为大于1的整数;根据各子带的所述方位向扫描角速度和所述子带成像时长确定各子带对应的方位向扫描角;根据各子带的所述子带成像时长确定各子带对应的方位向成像长度。
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