[发明专利]一种锥状双曲超材料光子结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910514914.2 申请日: 2019-06-14
公开(公告)号: CN110320579A 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 梁强兵;李国辉;崔艳霞;高琳华;石林林;王文艳;郝玉英 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;C23C14/24;C23C14/18;C23C14/08
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 代理人: 李富元
地址: 030024 山西*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明属于超材料光子器件的技术领域,特别是涉及一种锥状双曲超材料光子结构及其制备方法。一种锥状双曲超材料光子结构,从上至下依次为锥状MoO3/Ag复合层、Ag膜、MoO3介质层、玻璃衬底,MoO3介质层厚度为2nm,Ag膜厚度为300 nm,锥状MoO3/Ag复合层由2‑3层MoO3/Ag复合而成,其中,每层MoO3/Ag中,MoO3厚度为20nm,Ag的厚度为15nm。本发明还涉及该锥状双曲超材料光子结构的制备方法。本发明锥状双曲超材料光子结构在300~1100 nm宽谱范围内具有较好的减反性能。
搜索关键词: 锥状 超材料 光子结构 制备 复合层 介质层 从上至下 光子器件 衬底 宽谱 复合 玻璃
【主权项】:
1.一种锥状双曲超材料光子结构,其特征在于:从上至下依次为锥状MoO3/Ag复合层、Ag膜、MoO3介质层、玻璃衬底,MoO3介质层厚度为2nm,Ag膜厚度为300 nm,锥状MoO3/Ag复合层由2‑3层MoO3/Ag复合而成,其中,每层MoO3/Ag中,MoO3厚度为20nm,Ag的厚度为15nm。
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