[发明专利]等离子体CVD装置有效

专利信息
申请号: 201910523742.5 申请日: 2019-06-17
公开(公告)号: CN110804732B 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 洪丽;赵月;公占飞 申请(专利权)人: 湖上产业发展集团有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/54
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 310053 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种等离子体CVD装置,机架的工作平台上固定有一个圆筒状的腔体,腔体的顶部设有微波转换器,腔体外壁上设有环绕腔体的环形进气道及环形抽气道,腔体中部的外周设有若干观察窗,腔体的下部设有开口,机架上设有升降机构,升降机构包括一升降台及设置在升降台上用于密封腔体开口的升降法兰,升降台与升降法兰之间设有缓冲机构,用于安置基材的腔内台通过支撑管固定在升降台上,腔内台位于升降法兰的上方且与腔体的开口对应,腔内台的下部设有防泄漏装置。本发明的等离子体CVD装置具有结构简单,腔体密封性好,微波泄漏少且使用寿命长的优点,具有很高的实用价值。
搜索关键词: 等离子体 cvd 装置
【主权项】:
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