[发明专利]一种金刚石表面复杂结构及其制备方法

摘要

本发明提供一种金刚石表面复杂结构及其制备方法，本发明使用黄光、纳米压印、镀膜、Lift‑off等微纳加工方法结合抛光磨平工艺在金刚石表面制备多层结构作为掩模板，然后利用多层结构掩模板进行刻蚀，能得到多层复杂金刚石结构。由于本发明是以在金刚石表面制备得到多层同一材料或不同材料的掩膜图形结构为掩膜板，因此针对金刚石表面多层不同材料的掩膜，可采用相同或不同的刻蚀工艺进行干法刻蚀，最终还能够制备出多层的金刚石表面复杂结构。

主权项

1.一种金刚石表面复杂结构的制备方法，其特征在于，具体包括如下步骤：(1)在金刚石片表面制备光敏材料层，然后将光敏材料图形化，制备得到光敏材料图形结构；(2)在步骤(1)所得样品表面沉积得到辅助掩模材料层；(3)去除光敏材料层及光敏材料层表面的辅助掩模材料，得到辅助掩模材料图形结构；(4)在步骤(3)所得样品表面沉积得到掩模材料层；(5)将金刚石有辅助掩模材料层和掩模材料层的表面平整化，使辅助掩模材料层和掩模材料层的表面平齐；(6)在步骤(5)的样品表面重复步骤(1)～(5)N次，N≥1；(7)去除每一次步骤(2)堆积的辅助掩膜材料，得到每一次步骤(4)掩模材料堆积的掩模；(8)刻蚀，去除掩膜材料残留层，得到N+1层金刚石表面结构；每一次步骤(1)中采用的光敏材料为相同或不同，每一次步骤(1)中制得的光敏材料图形结构不相同；每一次步骤(2)中采用的辅助掩膜材料为相同或不同；每一次步骤(4)中采用的掩膜材料为相同或不同；在逐层制备掩模材料层的过程中，第n+1层掩模材料层的面积小于等于第n层掩模材料层的面积，第n+1层掩膜材料层位于第n层掩膜材料层之上，1≤n≤N。