[发明专利]一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置及方法在审
| 申请号： | 201910529489.4 | 申请日： | 2019-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN110202420A | 公开（公告）日： | 2019-09-06 |
| 发明（设计）人： | 肖峻峰;王强;牛牧原;许剑锋;刘祥;罗优明;吴佳理 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 张彩锦;曹葆青 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于流体辅助微纳抛光技术领域，并具体公开了一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置及方法，其包括上液压单元、下液压单元、抛光腔和励磁线圈，上液压单元和下液压单元分设于抛光腔两端，并与抛光腔导通形成用于容纳磁流变抛光液的容纳腔，磁流变抛光液在上液压单元和下液压单元的共同作用下达到预设压力并做上下往复运动；抛光腔的内部用于放置待抛光工件，其外部套装有励磁线圈，通过对励磁线圈通电以在抛光腔内形成绕抛光腔轴线旋转的磁场，磁流变抛光液在旋转磁场的作用下运动以实现待抛光工件的抛光。本发明具有结构简单、抛光过程可控性强、效率高、抛光均匀，没有表面损伤等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 液压单元 抛光腔 磁流变抛光液 励磁线圈 旋转磁场 磁流变抛光装置 抛光工件 抛光 抛光技术领域 上下往复运动 表面损伤 流体辅助 抛光过程 预设压力 轴线旋转 可控性 容纳腔 导通 磁场 分设 通电 容纳 外部 | ||
【主权项】：
1.一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置，其特征在于，该装置包括上液压单元、下液压单元、抛光腔(8)和励磁线圈(1)，其中：所述上液压单元和下液压单元分设于所述抛光腔(8)的两端，并且均与抛光腔(8)导通，以形成用于容纳磁流变抛光液(10)的容纳腔，该磁流变抛光液(10)在所述上液压单元和下液压单元的共同作用下达到预设压力并做上下往复运动；所述抛光腔(8)的内部用于放置待抛光工件(9)，且其外部套装有所述励磁线圈(1)，通过对该励磁线圈(1)通电以在抛光腔(8)内形成绕抛光腔(8)轴线旋转的磁场，所述磁流变抛光液(10)在旋转磁场的作用下运动以对待抛光工件(9)执行抛光动作。
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