[发明专利]照射量校正量的取得方法、带电粒子束描绘方法及装置有效
| 申请号： | 201910529595.2 | 申请日： | 2019-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN110687755B | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 广濑晓;西村理惠子 | 申请（专利权）人： | 纽富来科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘英华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的实施方式涉及照射量校正量的取得方法、带电粒子束描绘方法及带电粒子束描绘装置。本实施方式的照射量校正量的取得方法具备：使用带电粒子束描绘装置，通过路径数不同的多重描绘将带电粒子束向基板照射而描绘评价图案的工序；测定上述评价图案的尺寸的工序；根据与各路径数对应的评价图案的尺寸测定结果，计算每1路径的尺寸变动量的工序；及基于上述每1路径的尺寸变动量、及表示图案尺寸的变化量相对于带电粒子束的照射量的变化量的比的似然，计算每1路径的照射量变动量的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 校正 取得 方法 带电 粒子束 描绘 装置 | ||
【主权项】：
1.一种照射量校正量的取得方法，具备：/n使用带电粒子束描绘装置，通过路径数不同的多重描绘将带电粒子束向基板照射而描绘评价图案的工序；/n测定上述评价图案的尺寸的工序；/n根据与各路径数对应的评价图案的尺寸测定结果，计算每1路径的尺寸变动量的工序；以及/n基于上述每1路径的尺寸变动量、及表示图案尺寸的变化量相对于带电粒子束的照射量的变化量的比的似然，计算每1路径的照射量变动量的工序。/n
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