[发明专利]具有多个靶体和磁体的沉积室的PVD装置和方法在审
| 申请号： | 201910530420.3 | 申请日： | 2012-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN110230030A | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | 高宗恩;蔡明志;周友华;江振家;李志聪;郭铭修 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 提供用于可单独供电的多个靶体组件的薄膜沉积系统和方法。每个靶体组件都包括靶体以及相关的磁体或磁体组。本发明提供了通过对靶体布置单独供电的多个电源产生的可调膜轮廓。可以对提供给靶体布置的功率的相对量进行定制以提供期望的膜，并且可以及时改变提供给靶体布置的功率的相对量以产生具有不同特性的膜。本发明提供了具有多个靶体和磁体的沉积室的PVD装置和方法。 | ||
| 搜索关键词： | 靶体 靶体组件 单独供电 沉积室 薄膜沉积系统 电源产生 改变提供 磁体组 对靶 可调 期望 | ||
【主权项】：
1.一种膜沉积系统，包括：沉积室，具有其中包括多个靶体组件的靶体布置，每个所述靶体组件都包括靶体构件以及专用磁体或多个专用磁体，每个所述靶体组件都具有可单独控制的电源；以及工作台，用于在其上接收工件，其中，所述多个靶体组件之间存在隔离区域，每个所述专用磁体或多个专用磁体相对于相关的所述靶体组件的相关的所述靶体构件旋转；其中，所述专用磁体或多个专用磁体的每个包括两个北极和南极对，并且所述两个北极和南极对的北极同心地设置在南极内，并且每个北极和南极对的所述北极与所述南极在与所述靶体构件的表面平行的平面上横向偏移并且在所述每个北极和南极对的所述北极和所述南极之间产生最大磁场而不在相邻的北极和南极对之间产生最大磁场，使得在与所述最大磁场对准的所述靶体构件处产生高侵蚀区域。
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