[发明专利]具有深度检测的成像系统及操作该成像系统的方法在审

专利信息
申请号: 201910531935.5 申请日: 2019-06-19
公开(公告)号: CN110661940A 公开(公告)日: 2020-01-07
发明(设计)人: M·米利纳尔;U·博提格 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04N9/04
代理公司: 11270 北京派特恩知识产权代理有限公司 代理人: 尚玲;姚开丽
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了一种成像系统及操作该成像系统的方法,该成像系统可包括图像传感器、透镜、和位于透镜与图像传感器之间的具有反射特性的层,诸如红外截止滤波器。透镜可将来自场景中的对象的光聚焦到图像传感器上。被导向到图像传感器上的光中的一些光可在图像传感器上形成第一图像。被导向到图像传感器上的光的其他部分可反射离开图像传感器并且朝具有反射特性的层反射回去。这些层可将光反射回到图像传感器上,从而形成相对于第一图像偏移的第二图像。深度映射电路可比较第一图像和第二图像以确定成像系统与场景中对象之间的距离。
搜索关键词: 图像传感器 成像系统 透镜 图像 反射特性 反射 红外截止滤波器 图像偏移 映射电路 场景 光反射 光聚焦
【主权项】:
1.一种成像系统,其特征在于,包括:/n透镜;/n图像传感器,所述图像传感器包括生成图像数据的像素阵列;/n至少部分地具有反射性的中间层,所述中间层插置在所述透镜与所述图像传感器之间;/n红外截止滤波器,所述红外截止滤波器插置在所述中间层与所述透镜之间,其中,来自对象的光穿过所述透镜、所述红外截止滤波器和所述中间层以到达所述图像传感器,其中,所述光的第一部分被所述像素阵列捕获以生成主图像,并且其中,所述光的第二部分朝所述中间层反射离开所述图像传感器、离开所述中间层朝所述图像传感器反射回去并被所述像素阵列捕获以生成不同于所述主图像的次级图像;和/n深度映射电路,所述深度映射电路检测所述主图像和所述次级图像并将所述主图像与所述次级图像进行比较以确定所述成像系统与所述对象之间的距离。/n
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