[发明专利]一种具有复合膜层的烧结钕铁硼磁体及其制备方法有效
| 申请号： | 201910533157.3 | 申请日： | 2019-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN110129733B | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 谢元华;王朋阳;刘坤;杜广煜;臧浩天;胡强;张昕洁 | 申请（专利权）人： | 东北大学 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 110169 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及磁性材料表面防护技术领域，尤其涉及一种烧结钕铁硼磁体表面复合膜层及其制备方法。该具有复合膜层的烧结钕铁硼磁体包括磁体本体，以及依次层叠设置于磁体本体表面的铝膜层、氧化铝膜层和氮化钛膜层。本发明提供的烧结钕铁硼磁体，通过依次沉积铝膜层、氧化铝膜层和氮化钛膜层，能够打断和封闭贯穿薄膜的组织缺陷的结构效应，避免了形成贯穿多层薄膜的针孔、微裂纹等组织缺陷，提高了磁体的耐腐蚀性。多层膜交替沉积，减少了膜层内应力，使氮化钛更加致密，还增强了膜层之间及膜层与基底的结合力，进一步增强了耐腐蚀性能。此外，通过氧化铝膜层的设置，还提高了磁体的耐高温抗氧化性，通过氮化钛膜层的沉积，提高了磁体的抗冲蚀能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 复合 烧结 钕铁硼 磁体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种具有复合膜层的烧结钕铁硼磁体，其特征在于，包括磁体本体，以及依次层叠设置于所述磁体本体表面的铝膜层、氧化铝膜层和氮化钛膜层。
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