[发明专利]一种用于直写式光刻机拼板曝光的方法在审
| 申请号： | 201910534114.7 | 申请日： | 2019-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN110244525A | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 赵美云 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 苗娟;奚华保 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种用于直写式光刻机拼板曝光的方法，可解决现有的曝光方法产能较低的技术问题。包括以下步骤：S100、设定光刻机拼板模式；S200、将光刻机拼板按照M行N列模式放在曝光精密平台上；S300、读取单片光刻机板卡图形信息；S400、使用对位相机以最短路径采集每片光刻机板卡上的对位点信息；S500、把采集到的对位点信息，按照对位模型计算指定对位模型参数；S600、将单片光刻机板卡图形组合成M行N列的图形，应用对应的板卡对位参数；S700、对应用对位参数的图形，处理矢量数据，输出指定格式数据，曝光。本发明采用图形拼接技术，将多张单板卡图形资料拼接在一起，并根据区域划分各自板卡的范围，从而应用各自板卡的变形参数，保证对位精度的基础上，提升了产能。 | ||
| 搜索关键词： | 板卡 对位 光刻机 拼板 曝光 直写式光刻机 对位点 产能 单片 应用 采集 读取 变形参数 格式数据 精密平台 模型参数 模型计算 矢量数据 输出指定 图形拼接 图形信息 图形资料 图形组合 最短路径 单板 拼接 相机 保证 | ||
【主权项】：
1.一种用于直写式光刻机拼板曝光的方法，其特征在于：包括以下步骤：S100、设定光刻机拼板模式，设定M行N列模式，其中M、N分别为大于0的自然数；S200、将光刻机拼板按照M行N列模式放在曝光精密平台上；S300、通过数据处理软件读取单片光刻版图图形信息，加载到内存，并以指定的数据格式保存；根据设定的拼版模式，将单片光刻版图排布组合成M行N列；S400、使用对位相机以最短路径采集每片光刻机板卡上的对位点信息；S500、把采集到的对位点信息，按照对位模型计算指定对位模型参数；S600、将单片光刻机板卡图形组合成M行N列的图形，应用对应的板卡对位参数；S700、对应用对位参数的图形，处理矢量数据，输出指定格式数据，曝光。
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