[发明专利]化合物及有机膜形成用组合物有效

专利信息
申请号: 201910539258.1 申请日: 2019-06-20
公开(公告)号: CN110615732B 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 橘诚一郎;渡边武;新井田惠介;长井洋子;泽村昂志;荻原勤;亚历山大·爱德华·赫斯;格雷戈里·布雷塔;丹尼尔·保罗·桑德斯;鲁迪·J·沃伊泰茨基 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社;国际商业机器公司
主分类号: C07C43/21 分类号: C07C43/21;C07C41/30;C07C41/16;C07C49/84;C07C45/64;C07C43/23;C07D213/80;C07D221/16;G03F7/004
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 张晶;谢顺星
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种化合物,其能够形成不仅在空气中、而且在惰性气体中的成膜条件下也固化而不产生副产物,耐热性及形成在基板上的图案的嵌入或平坦化特性优异,且基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机下层膜。该化合物为下述通式(1‑1)所示的化合物。[化学式1]式中,AR1、AR2表示芳香环或含有氮原子、硫原子中的1个以上的芳香环,2个AR1、AR1与AR2、2个AR2可连接;AR3为苯环、萘环、噻吩环、吡啶环或二嗪环;A为有机基团,B为阴离子性离去基团,Y为2价有机基团,p为1或2,q为1或2,r为0或1,s为2~4;s=2时,Z为单键、2价原子或2价有机基团,s=3或4时,Z为3价或4价的原子或有机基团。
搜索关键词: 化合物 有机 形成 组合
【主权项】:
1.一种化合物,其如下述通式(1-1)所示,/n[化学式1]/n
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