[发明专利]集成成像光场显示系统透镜阵列的校准方法有效

专利信息
申请号: 201910541118.8 申请日: 2017-05-18
公开(公告)号: CN110262048B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 闫兴鹏;严志强;苏健;蒋晓瑜;王特;陈祎贝;刘军辉;陈卓;汪熙 申请(专利权)人: 中国人民解放军装甲兵工程学院
主分类号: G02B30/27 分类号: G02B30/27
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 程华
地址: 100072*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种集成成像光场显示系统透镜阵列的校准方法,属于基于集成成像的光场显示技术领域,具体涉及光场显示系统中透镜阵列的校准方法。集成成像光场显示系统包括显示面板、透镜阵列和定向散射屏,针对透镜阵列的装配过程中存在的误差问题,本发明提出一种消除透镜阵列中心位置偏差的方法,其基本思想为:理想透镜光心位置与相应显示单元中心位置的连线与定向散射屏会有交点,以此交点作为参考点;在理想透镜对应显示单元的中心点处加载校验图像,该校验图像经实际透镜后会在定向散射屏上成像;再根据实际成像位置与参考点的位置偏差进行相应的校准处理,以消除透镜阵列中心位置偏差。
搜索关键词: 集成 成像 显示 系统 透镜 阵列 校准 方法
【主权项】:
1.一种集成成像光场显示系统透镜阵列的校准方法,其特征在于,所述集成成像光场显示系统包括显示面板(1)、透镜阵列(2)和定向散射屏(3),所述显示面板(1)上加载单元图像阵列,每一单元图像与透镜一一对应,且校准后透镜的光心与单元图像的中心横向重合,单元图像阵列经透镜阵列(2)投影后重构出三维场景,在重构三维场景的某一平面放置定向散射屏(3),提高了定向散射屏(3)后一段深度范围内的人眼观看的集成成像的可视分辨率;透镜阵列(2)中的透镜在装配过程中存在误差,实际透镜位置会偏离理想透镜位置,采用以下方法消除透镜阵列(2)中心位置的横向偏差:A.理想透镜光心与显示面板(1)上相应单元图像的中心的连线与定向散射屏(3)会有交点,在定向散射屏(3)上标记出该交点作为参考点,所有的参考点具有相同的间距;B.在显示面板(1)上加载校验图像,校验图像的中心与单元图像的中心重合,该校验图像经实际透镜后会在定向散射屏(3)上成像,所成像的中心与参考点之间存在偏差,精确测量这一位置偏差;C.根据显示面板(1)、透镜阵列(2)和定向散射屏(3)之间的位置关系,以及上一步精确测量得到的位置偏差值,计算得到实际透镜对应单元图像中心位置与理想透镜对应单元图像中心位置之间的准确偏差值,进而消除透镜阵列(2)中心位置的横向偏差。
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