[发明专利]检测基板上的缺陷的方法和用于检测基板上的缺陷的设备在审
| 申请号： | 201910542195.5 | 申请日： | 2019-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN110907471A | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 郑殷熹;亚历山大·肖尔克夫;安东·梅德韦杰夫;马克西姆·里亚巴克;裴祥佑;大久保彰律;李相珉;赵成根;朱愿暾 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘美华;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开一种检测基板上缺陷的方法和用于检测基板上的缺陷的设备。在检测基板上的缺陷的方法中，可以将入射光束照射到基板的表面以产生反射光束。可检测反射光束之中的二次谐波产生(SHG)光束。SHG光束可由基板上的缺陷产生。可通过检查SHG光束来检测纳米尺寸缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 基板上 缺陷 方法 用于 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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