[发明专利]掩膜框架组件在审
| 申请号： | 201910546872.0 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN110894587A | 公开（公告）日： | 2020-03-20 |
| 发明（设计）人： | 河在秀;李秀奂;徐成昊;柳光泰 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C16/04;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 李盛泉;孙昌浩 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜框架组件。本发明可包括：掩膜框架；以及掩膜条，配备有沿第一方向延伸的第一掩膜条、沿与第一方向交叉的第二方向延伸的第二掩膜条、与第一掩膜条及第二掩膜条连接而定义多个沉积区域的多个第三掩膜条，其中，所述第一掩膜条的厚度与第二掩膜条的厚度不同，并且在所述第一掩膜条与第二掩膜条相互连接的部分可布置有部分蚀刻部。 | ||
| 搜索关键词： | 框架 组件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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