[发明专利]以雷射开窗形成光学挡墙的方法及光学挡墙结构在审
| 申请号： | 201910547355.5 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN112133807A | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 李蕙如 | 申请（专利权）人： | 培英半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/48 | 分类号： | H01L33/48;H01L33/44;H01L33/58;H01L31/0232;H01L31/0216;H01L31/0203 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 郭化雨 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学挡墙结构，其包括一基板、一第一挡墙层、一雷射遮蔽铜层及一第二挡墙层，基板具有一工作面，第一挡墙层形成于工作面上，且第一挡墙层围构一裸露工作面的第一开窗；雷射遮蔽铜层形成于第一挡墙层的一上表面但不形成于围构第一开窗的侧壁；第二挡墙层形成于雷射遮蔽铜层上，且第二挡墙层围构一第二开窗，第二挡墙层的横截面积小于第一挡墙层，第二开窗的轮廓大于第一开窗，且第二开窗裸露雷射遮蔽铜层的一部分。本发明还提供一种以雷射开窗形成光学挡墙的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 雷射 开窗 形成 光学 挡墙 方法 结构 | ||
【主权项】：
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