[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201910547433.1 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN110648890B | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 町山弥;里吉务 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置，其能够减少飞散在处理室内的颗粒。该等离子体处理装置包括处理室、第一部件和第二部件。处理室形成在其中生成等离子体的处理空间，并利用等离子体来处理收纳于处理空间内的被处理体。第一部件具有面向处理空间的第一面，且配置在处理室内。第二部件配置在比第一部件靠处理空间侧的处理室内，具有面向处理空间的第二面，该第二面被包含在与包含第一面的平面或曲面交叉的平面或曲面中。在第一部件和第二部件的截面中，在包含第一面的平面或曲面与包含第二面的平面或曲面的交点附近的、第一部件与第二部件之间，形成有空隙。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：/n处理室，其形成在其中生成等离子体的处理空间，并利用所述等离子体来处理收纳于所述处理空间内的被处理体；/n第一部件，其具有面向所述处理空间的第一面；和/n第二部件，其配置于比所述第一部件靠所述处理空间侧的所述处理室内，并具有面向所述处理空间的第二面，所述第二面被包含在与包含所述第一面的平面或曲面交叉的平面或曲面中，/n在所述第一部件和所述第二部件的截面中，在包含所述第一面的平面或曲面与包含所述第二面的平面或曲面的交点附近的、所述第一部件与所述第二部件之间，形成有空隙。/n
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