[发明专利]一种波像差测量方法、波像差测量装置及光刻机在审
| 申请号： | 201910551270.4 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN112130417A | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 董冠极;马明英 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种波像差测量方法、波像差测量装置及光刻机，所述波像差测量方法包括：步骤(1)设置测量标记，所述测量标记包括位于投影物镜两端的物面光栅和像面光栅；步骤(2)提供一检测光束，使所述检测光束经所述物面光栅后被投影至所述像面光栅处，得到波像差测试图；步骤(3)改变所述物面光栅与所述像面光栅的相对位置，得到不同相移条件下的多个波像差测试图及测量标记的多个位置坐标；步骤(4)根据所述测量标记的多个位置坐标，计算所述测量标记的多个实际相移量；步骤(5)求解投影物镜的波前相位；步骤(6)计算得到投影物镜的波像差。本发明在测量波像差时，通过测量标记的实际位置求解波像差，提高了波像差的测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 波像差 测量方法 测量 装置 光刻 | ||
【主权项】：
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