[发明专利]一种铜铟镓硒镀膜设备的真空腔室在审
| 申请号： | 201910556740.6 | 申请日： | 2019-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN110344019A | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 袁正 | 申请（专利权）人： | 北京汉能薄膜发电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/24;C23C14/06;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101400*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铜铟镓硒镀膜设备的真空腔室，包括腔体、前门板和背板，所述腔体的前端和后端分别开设有第一开口和第二开口，腔体内设有隔板，隔板将腔体分隔为腔体上部和腔体下部，腔体上部安装有卷绕装置，腔体下部安装有加热装置和蒸发源，且腔体与真空系统连接；前门板可开合地设置在腔体的前端，背板可开合地设置在腔体的后端，前门板与腔体之间设有第一密封件，背板与腔体之间设有第二密封件。该真空腔室在工作状态下，能够满足高真空的工艺要求，在非工作状态下，所述真空腔室能够满足检修的工艺要求。 | ||
| 搜索关键词： | 腔体 真空腔室 前门板 背板 隔板 镀膜设备 工艺要求 腔体上部 腔体下部 铜铟镓硒 可开合 开口 第二密封件 非工作状态 加热装置 卷绕装置 腔体分隔 真空系统 高真空 密封件 蒸发源 检修 体内 | ||
【主权项】：
1.一种铜铟镓硒镀膜设备的真空腔室，其特征在于，包括：腔体，所述腔体的前端开设有第一开口，所述腔体的后端开设有第二开口；所述腔体内设有隔板，所述隔板将所述腔体分隔为腔体上部和腔体下部，所述腔体上部安装有卷绕装置，所述腔体下部安装有加热装置和蒸发源，且所述腔体与真空系统连接；前门板，所述前门板可开合地设置在所述腔体的前端，所述前门板与所述腔体之间设有第一密封件，用于密封所述第一开口；背板，所述背板可开合地设置在所述腔体的后端，所述背板与所述腔体之间设有所述第二密封件，用于密封所述第二开口。
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