[发明专利]检测光刻掩模的结构的方法和实行该方法的装置有效
申请号: | 201910558393.0 | 申请日: | 2019-06-25 |
公开(公告)号: | CN110631503B | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | U.马特耶卡;T.谢鲁布尔;M.科赫;C.胡斯曼;L.斯托普;B.M.穆特 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24;G01B11/14;G01B9/02;G03F1/84 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王蕊瑞 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在检测光刻掩模的结构中,在至少一个优选的照明方向上用至少部分相干的光源的照明光来照明光刻掩模的部分。然后通过在检测平面中空间分辨地检测从照明的部分所衍射的照明光的衍射强度来记录照明的部分的衍射图像。然后对光刻掩模的其他部分重复“照明”和“记录衍射图像”步骤。在光刻掩模的由此检测的至少两个部分之间,各存在重叠区域,该重叠区域的表面范围的测量值为光刻掩模的两个部分中较小部分的至少5%或更多。该重复发生直到光刻掩模的所检测的部分完全覆盖光刻掩模的要检测的区域。从照明的部分的记录的衍射图像中计算光刻掩模的结构。还指定了一种实行结构检测方法的装置,其包括光源、空间分辨检测器和掩模夹持器。 | ||
搜索关键词: | 检测 光刻 结构 方法 实行 装置 | ||
【主权项】:
1.一种检测光刻掩模(5)的结构的方法,具有如下步骤:/n-在至少一个优选的照明方向(18
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