[发明专利]基于In2Se3/Si垂直结构异质结的自驱动近红外长波光电探测器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201910560177.X 申请日: 2019-06-26
公开(公告)号: CN110289335A 公开(公告)日: 2019-09-27
发明(设计)人: 吴春艳;康经纬;朱慧男;张悦;王斌;罗林保 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/18;H01L31/0336;H01L31/0224;C23C14/35;C23C14/30;C23C14/18;C23C14/06
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 卢敏
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了基于In2Se3/Si垂直结构异质结的自驱动近红外长波光电探测器及其制作方法,是在带有绝缘层的Si基底上刻蚀形成Si窗口,通过磁控溅射在窗口的Si上沉积In2Se3薄膜,构建In2Se3/Si垂直结构异质结,并将石墨烯转移到In2Se3上方作为透明顶电极,在Si基底背面构建欧姆接触的底电极,即完成光电探测器的制作。本发明利用缺陷导致的In2Se3薄膜在近红外的吸收增强,使探测器在Si的吸收限以外仍有明显的光响应,弥补了硅基器件对于近红外长波响应的不足;同时,本发明的自驱动近红外长波光电探测器性能优越、制备过程简单易行,与现行Si基半导体工艺具有良好的兼容性。
搜索关键词: 长波光电探测器 垂直结构 异质结 自驱动 构建 薄膜 绝缘层 制作 半导体工艺 光电探测器 长波响应 磁控溅射 硅基器件 基底背面 欧姆接触 制备过程 底电极 顶电极 光响应 兼容性 石墨烯 探测器 基底 刻蚀 吸收 沉积 透明
【主权项】:
1.基于In2Se3/Si垂直结构异质结的自驱动近红外长波光电探测器,其特征在于:使用上表面带有绝缘层(2)的平面硅(1)作为基底;对中间部分的绝缘层(2)进行刻蚀并裸露出平面硅,形成探测器窗口;在探测器窗口上通过磁控溅射沉积In2Se3薄膜(3),构建In2Se3/Si异质结;转移石墨烯(4)至异质结上方,并与两侧未刻蚀的绝缘层(2)部分重叠,所述石墨烯作为透明顶电极与In2Se3薄膜形成欧姆接触;在与绝缘层(2)接触的石墨烯(4)上方沉积第一金属薄膜电极(5),与石墨烯形成欧姆接触;在平面硅(1)的背面涂刷第二金属薄膜电极(6),与平面硅形成欧姆接触。
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