[发明专利]微影设备及微影设备的操作方法有效
| 申请号： | 201910560185.4 | 申请日： | 2019-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN110657351B | 公开（公告）日： | 2022-07-08 |
| 发明（设计）人： | 谢馥骏;苏倍毅 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | F17D5/02 | 分类号： | F17D5/02;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种微影设备及微影设备的操作方法。本揭露描述处理半导体制造设备中的流体泄漏的泄漏处理装置与方法。半导体制造设备可包含微影设备，此微影设备具有配置以承托基材的固定座、以及配置以配送涂料于基材的一或多个区域上的光阻进料器。光阻进料器可包含配置以输出涂料的光阻筒、与光阻筒流体连接的导管、以及设于固定座之上的流体泄漏处理装置，其中导管可配置以流体传输涂料并循环冷却剂，流体泄漏处理装置可配置以检测来自导管的流体泄漏。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 操作方法 | ||
【主权项】：
1.一种微影设备，其特征在于，该微影设备包含：/n一固定座，配置以承托一基材；以及/n一光阻进料器，配置以配送一涂料于该基材的一或多个区域上，其中该光阻进料器包含：/n一光阻筒，配置以输出该涂料；/n一导管，流体连接该光阻筒，且配置以流体传输该涂料与循环一冷却剂；以及/n一流体泄漏处理装置，设于该固定座之上，且配置以检测来自该导管的一流体泄漏。/n
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