[发明专利]一种降低寄生光响应的全局像素单元结构和形成方法

摘要

本发明公开了一种降低寄生光响应的全局像素单元结构，包括设于衬底上的光电二极管，传输管，存储节点，以及覆盖于衬底上的层间介质层，层间介质层中设有金属互连层，且金属互连层位于任意相邻两个像素单元的光电二极管之间的上方区域，光电二极管上方的层间介质层中还设有深沟槽，深沟槽的底面与光电二极管的上表面相隔离，一复合挡光结构覆盖于深沟槽的侧壁上，其在深沟槽的上下两端形成开口，并延伸覆盖于层间介质层的上表面上，将其下方层间介质层中的金属互连层完全绝缘遮蔽，因此储存节点的信号不会受到入射光线的影响，避免了输出信号的失真。本发明还公开了一种降低寄生光响应的全局像素单元结构的形成方法。

主权项

1.一种降低寄生光响应的全局像素单元结构，其特征在于，包括设于衬底上的光电二极管，传输管，存储节点，以及覆盖于所述衬底上的层间介质层，所述层间介质层中设有金属互连层，且所述金属互连层位于任意相邻两个像素单元的光电二极管之间的上方区域，所述光电二极管上方的所述层间介质层中还设有深沟槽，所述深沟槽的底面与所述光电二极管的上表面相隔离，一复合挡光结构覆盖于所述深沟槽的侧壁上，其在所述深沟槽的上下两端形成开口，并延伸覆盖于所述层间介质层的上表面上，将其下方所述层间介质层中的所述金属互连层完全绝缘遮蔽。