[发明专利]抗眩结构及其制造方法

摘要

本发明公开一种抗眩结构及其制造方法，其中该抗眩结构具有第一表面以及与第一表面相对的第二表面。第一表面包括第一凸起结构以及第二凸起结构。第二凸起结构环绕第一凸起结构。第一表面包括离第二表面最近的最低点。第一凸起结构离第二表面较远的局部最高点与最低点在第二表面的法线方向上的距离为H1，且2.5μm≤H1≤3.5μm。第一凸起结构在与法线方向垂直的方向上的平均宽度为Wa，且8μm≤Wa≤12μm。相邻的两个第一凸起结构之间的距离为D1，且12μm≤D1≤18μm。第二凸起结构离第二表面较远的局部最高点与最低点在第二表面的法线方向上的距离为H2，且0.8μm≤H2≤1.2μm。第二凸起结构在与法线方向垂直的方向上的平均宽度为Wb，且2μm≤Wb≤4.5μm。

主权项

1.一种抗眩结构，具有第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面，其特征在于，所述第一表面包括第一凸起结构以及第二凸起结构，所述第二凸起结构环绕所述第一凸起结构，且所述第一表面包括离所述第二表面最近的最低点，其中，所述第一凸起结构离所述第二表面较远的局部最高点与所述最低点在所述第二表面的法线方向上的距离为H1，且2.5μm≤H1≤3.5μm，所述第一凸起结构在与所述法线方向垂直的方向上的平均宽度为Wa，且8μm≤Wa≤12μm，相邻的两个第一凸起结构之间的距离为D1，且12μm≤D1≤18μm，所述第二凸起结构离所述第二表面较远的局部最高点与所述最低点在所述第二表面的所述法线方向上的距离为H2，且0.8μm≤H2≤1.2μm，所述第二凸起结构在与所述法线方向垂直的方向上的平均宽度为Wb，且2μm≤Wb≤4.5μm。